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在全球前道晶圆制造的电镀设备方面,泛林半导体(Lam Research)目前占据着全球主要市场份额,而盛美半导体是全球范围内少数几家掌握芯片铜互连电镀铜技术核心专利并实现产业化的公司之一,其自主开发的前道铜互连镀铜技术可应用于20-14nm及更先进技术节点的芯片制造。据了解,盛美半导体的半导体电镀设备已经持续接到客户的订单,2021年的订单已达20台。在抛铜设备方面,盛美半导体自主研发的具有全球知识产权保护的无应力抛铜及CMP(化学机械抛光)集成设备也在2019年进入先进封装客户端进行工艺测试,该设备采用公司独立研发的无应力电抛光专利技术,与传统的CMP设备相比,可节省80%以上的抛光工艺耗材。在立式炉管设备方面,2021年全球立式炉管设备市场规模将达到31.54亿美元(数据来源:Gartner),
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